产品描述
采用直拉法拉制的大尺寸高纯度单晶系列产品,主要用于晶圆加工时刻蚀工艺中使用的极关键材料。提供满足客户要求的不同尺寸、电阻率的硅棒形态单晶产品。
产品用途
晶圆刻蚀用下电极用加工原材料。
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采用直拉法拉制的大尺寸高纯度单晶系列产品,主要用于晶圆加工时刻蚀工艺中使用的极关键材料。提供满足客户要求的不同尺寸、电阻率的硅棒形态单晶产品。</span></p>
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晶圆刻蚀用下电极用加工原材料。</span></p>
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产品描述 采用直拉法拉制的大尺寸高纯度单晶系列产品,主要用于晶圆加工时刻蚀工艺中使用的极关键材料。提供满足客户要求的不同尺寸、电阻率的硅棒形态单晶产品。 产品用途 晶圆刻蚀用下电极用加工原材料。 产品描述 采用直拉法拉制的大尺寸高纯度单晶系列产品,主要用于晶圆加工时刻蚀工艺中使用的极关键材料。提供满足客户要求的不同尺寸、电阻率的硅棒形态单晶产品。 产品用途 晶圆刻蚀用下电极用加工原材料。 技术参数 直径mm 型号/晶向 纯度 电阻率(Ω.cm) 厚度 φ200-φ P/<100>/<111> 接近11N ≤0.01 客户定制 1-4 60-90 客户定制
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